IGMR-Seminar

IGMR-Seminar
Kinematik, Dynamik und Mechatronik in der Bewegungstechnik

 

Im Rahmen des Seminars werden zu einem Schwerpunktthema oder auch allgemein 5 bis 8 Vorträge während der Vorlesungszeit angeboten. Referenten sind vertreten aus der Industrie und andere Hochschulen bzw. Universitäten. Die Zielgruppe ist sehr divers. Wir richten uns an Assistenten, Studien- und Diplomarbeiter des Instituts, Studierende des Maschinenbaus der RWTH Aachen, Mitarbeitende anderer Hochschulinstitute sowie Firmen in der Umgebung von Aachen.

Leitung: Univ.-Prof. Dr.-Ing. Dr. h. c. Burkhard Corves

Die Vorträge werden per Zoom übertragen.

 

Zoom Meeting Informationen:

https://rwth.zoom.us/j/94664322223?pwd=YlNMbm5vVlNTOWlnSDNCMVBZdkx3QT09

Die Datenschutzhinweise zur Nutzung von Zoom und eine Handreichung für Teilnehmer (Studierende) können von den Seiten des CLS der RWTH Aachen University heruntergeladen werden.

 


 

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Die aktuellen Veranstaltungen im Rahmen des IGMR-Seminars sind hier aufgeführt:

Seminarankündigung [PDF]

 

Terminkalender

Entwicklung optomechatronischer Systeme in der Nanolithografie
Donnerstag, 20. Januar 2022, 16:00 - 17:00
Aufrufe : 866
von ruland
Kontakt 

Entwicklung optomechatronischer Systeme in der Nanolithografie
Marwène Nefzi, Carl Zeiss SMT GmbH

Die Nanolithografie ist das Verfahren zur Herstellung von Mikrochips für Laptops, Smartphones und sonstige moderne Industrie- und Haushaltsgeräte. Die Funktionsgruppen dieser Mikrochips bestehen aus elektronischen Bauelementen wie Transistoren oder Kondensatoren. Diese werden von einem sogenannten Reticle mithilfe eines Objektivs auf eine mit Photolack beschichtete Siliziumscheibe, den Wafer, projiziert. Um Strukturgrößen < 20 nm ausreichend scharf abbilden zu können, arbeiten moderne Lithographiesysteme mit extrem Ultraviolettem-Licht (EUV) bei einer Wellenlänge von 13,5 nm.


Neben der Einhaltung von hohen Stabilitätsanforderungen ist eine multidisziplinäre Spezifikationsmethodik, die die Lücke zwischen Produkt- und Komponentenspezifikationen schließt, entscheidend für den erfolgreichen Einsatz optomechatronischer Komponenten in der EUV-Lithografie. In diesem Zusammenhang hat sich der iterative Top-Down/Bottom-Up Ansatz durchgesetzt. Er besteht unter anderem darin, ausgehend von einem Gesamtfehlerbudget für die zulässigen optischen Aberrationen auf Produktlevel eine Fehlerbudgetierung für verschiedene Fachbereiche und Schlüsselkomponenten vorzunehmen. Dabei ist das zu entwickelnde System noch nicht vollständig bekannt, so dass sich der Systemingenieur auf Skalierungen und einfachen Modellen verlassen muss. In diesem Beitrag wird diese Vorgehensweise anhand von 2 Fallbeispielen verdeutlicht.

 

Die Veranstaltung wird per Zoom übertragen: https://rwth.zoom.us/j/94664322223?pwd=YlNMbm5vVlNTOWlnSDNCMVBZdkx3QT09


Die Datenschutzhinweise zur Nutzung von Zoom und eine Handreichung für Teilnehmer (Studierende) können von den Seiten des CLS der RWTH Aachen University heruntergeladen werden.

Ort https://rwth.zoom.us/j/94664322223?pwd=YlNMbm5vVlNTOWlnSDNCMVBZdkx3QT09
Marwène Nefzi, Carl Zeiss SMT GmbH

KONTAKT


Institut für Getriebetechnik, Maschinendynamik und Robotik

RWTH Aachen

Eilfschornsteinstraße 18

52062 Aachen

 

Tel.: +49 (0)241 80 95546

Fax:  +49 (0)241 80 92263

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