IGMR-Seminar
IGMR-Seminar
Kinematik, Dynamik und Mechatronik in der Bewegungstechnik
Im Rahmen des Seminars werden zu einem Schwerpunktthema oder auch allgemein 5 bis 8 Vorträge während der Vorlesungszeit angeboten. Referenten sind vertreten aus der Industrie und andere Hochschulen bzw. Universitäten. Die Zielgruppe ist sehr divers. Wir richten uns an Assistenten, Studien- und Diplomarbeiter des Instituts, Studierende des Maschinenbaus der RWTH Aachen, Mitarbeitende anderer Hochschulinstitute sowie Firmen in der Umgebung von Aachen.
Leitung: Univ.-Prof. Dr.-Ing. Dr. h. c. Burkhard Corves
Die Vorträge werden per Zoom übertragen.
Zoom Meeting Informationen:
https://rwth.zoom.us/j/94664322223?pwd=YlNMbm5vVlNTOWlnSDNCMVBZdkx3QT09
Die Datenschutzhinweise zur Nutzung von Zoom und eine Handreichung für Teilnehmer (Studierende) können von den Seiten des CLS der RWTH Aachen University heruntergeladen werden.
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Die aktuellen Veranstaltungen im Rahmen des IGMR-Seminars sind hier aufgeführt:
Terminkalender
Entwicklung optomechatronischer Systeme in der Nanolithografie
Marwène Nefzi, Carl Zeiss SMT GmbH
Die Nanolithografie ist das Verfahren zur Herstellung von Mikrochips für Laptops, Smartphones und sonstige moderne Industrie- und Haushaltsgeräte. Die Funktionsgruppen dieser Mikrochips bestehen aus elektronischen Bauelementen wie Transistoren oder Kondensatoren. Diese werden von einem sogenannten Reticle mithilfe eines Objektivs auf eine mit Photolack beschichtete Siliziumscheibe, den Wafer, projiziert. Um Strukturgrößen < 20 nm ausreichend scharf abbilden zu können, arbeiten moderne Lithographiesysteme mit extrem Ultraviolettem-Licht (EUV) bei einer Wellenlänge von 13,5 nm.
Neben der Einhaltung von hohen Stabilitätsanforderungen ist eine multidisziplinäre Spezifikationsmethodik, die die Lücke zwischen Produkt- und Komponentenspezifikationen schließt, entscheidend für den erfolgreichen Einsatz optomechatronischer Komponenten in der EUV-Lithografie. In diesem Zusammenhang hat sich der iterative Top-Down/Bottom-Up Ansatz durchgesetzt. Er besteht unter anderem darin, ausgehend von einem Gesamtfehlerbudget für die zulässigen optischen Aberrationen auf Produktlevel eine Fehlerbudgetierung für verschiedene Fachbereiche und Schlüsselkomponenten vorzunehmen. Dabei ist das zu entwickelnde System noch nicht vollständig bekannt, so dass sich der Systemingenieur auf Skalierungen und einfachen Modellen verlassen muss. In diesem Beitrag wird diese Vorgehensweise anhand von 2 Fallbeispielen verdeutlicht.
Die Veranstaltung wird per Zoom übertragen: https://rwth.zoom.us/j/94664322223?pwd=YlNMbm5vVlNTOWlnSDNCMVBZdkx3QT09
Die Datenschutzhinweise zur Nutzung von Zoom und eine Handreichung für Teilnehmer (Studierende) können von den Seiten des CLS der RWTH Aachen University heruntergeladen werden.